1.

国際会議録
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1. Eliptically polarizing optical fiber
Bassett,I.M. ; Bjarme,M. ; Chan,D. ; Clarke,I.G. ; Digweed,J. ; Ryan,T. ; Michie,A. ; Wong,D.W.
出版情報: Fiber optic sensor technology and applications : 20-22 September 1999, Boston, Massachusetts.  pp.501-506,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3860
2.

国際会議録
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2. Application of attenuated phase-shift masks to sub-0.18-ｦﾌm logic patterns
Fritze,M. ; Wyatt,P.W. ; Astolfi,D.K. ; Davis,P. ; Curtis,A.V. ; Preble,D.M. ; Cann,S.G. ; Denault,S. ; Chan,D. ; Shaw,J.C. ; Sullivan,N.T. ; Brandom,R. ; Mastovich,M.E.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1179-1192,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
3.

国際会議録
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3. Hyperspectral imaging system for food safety: detection of fecal contamination on apples
Kim,M.S. ; Chao,K. ; Chen,Y.-R. ; Chan,D. ; Mehl,P.M.
出版情報: Photonic detection and intervention technologies for safe food : 5-6 November 2000, Boston, USA.  pp.174-184,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4206
4.

国際会議録
国際会議録
4. Automated melanoma diagnosis system
Bischof,L.M. ; Talbot,H. ; Breen,E. ; Lovell,D. ; Chan,D. ; Stone,C. ; Menzies,S. ; Gutenev,A. ; Caffin,R.
出版情報: New Approaches in Medical Image Analysis.  pp.130-141,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3747
5.

国際会議録
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5. Incorporation of laser proximity correction into mask production
Rosenbusch,A. ; Unruh,J. ; Kirsch,H. ; Chan,D.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part1  pp.513-522,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
6.

国際会議録
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6. Photomask blank shelf-life study on e-beam chemically amplified resists
Qian,F. ; Chan,D. ; Ishizuka,M. ; Kurabayashi,A. ; Ogawa,T. ; Kobayashi,R. ; Sasaki,T.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.577-587,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562
7.

国際会議録
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7. Minimization of mask transmission asymmetry effect for chromeless phase-shift masks
Chan,D. ; Novak,J.W. ; Fritze,M.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.911-920,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
8.

国際会議録
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8. Characterization of quartz-etched PSM masks for KrF lithography at the 100-nm node
Rhyins,P. ; Fritze,M. ; Chan,D. ; Carney,C. ; Blachowicz,B.A. ; Vieira,M. ; Mack,C.A.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.486-495,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562