1.

国際会議録
国際会議録
1. Lithographic performance of recent DUV photoresists
Streefkerk,B. ; van,Ingen,Schenau,K. ; Buijk,C.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 2  pp.987-996,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mask error factor:causes and implications for process latitude
Schoot,J.van ; Finders,J. ; Schenau,K.van Ingen ; Klaassen,M. ; Buijk,C.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.250-260,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679