1.

国際会議録
国際会議録
1. Cryogenic aerosol cleaning of photomasks [5853-12]
Banerjee, S. ; Lin, C. C. ; Su, S. ; Chung, H. F. ; Brandt, W. ; Tang, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.90-99,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization of photomask surface cleaning with cryogenic aerosol technique [5922-54]
Banerjee, S. ; Lin, C. C. ; Su, S. ; Bowers, C. ; Chung, H. F. ; Brandt, W. ; Tang, K.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921H-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992