1.

国際会議録
国際会議録
1. CHEMICAL OXIDE CHARACTERIZATION
Paillet, C. ; Joly, J.P. ; Tardif, F. ; Barla, K. ; Patruno, P. ; Levy, D.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.366-370,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
2.

国際会議録
国際会議録
2. Deposition and characterization of ultrathin Ta2O5 layers deposited on silicon from a Ta(OC2H5)5 precursor
Chaneliere, C. ; Autran, J. L. ; Raynard, J. P. ; Michailos, M. ; Barla, K. ; Ushikawa, H. ; Hiroe, A. ; Shimomura, K. ; Kakimoto, A.
出版情報: Structure and electronic properties of ultrathin dielectric films on silicon and related structures : symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.75-,  2000.  Warrendale, PA.  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 592
3.

国際会議録
国際会議録
3. Comparative study of on-line lifetime techniques for the monitoring of metallic micro contamination for ULSI microelectronics
Walz, D. ; Joly, J.P. ; Kamarinos, G. ; Barla, K.
出版情報: ALTECH 95 : analytical techniques for semiconductor materials and process characterization II : proceedings of the Satellite Symposium to ESSDERC 95, The Hague, The Netherlands.  pp.35-43,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-30
4.

国際会議録
国際会議録
4. Effect of Post Nitridation Anneal on Physical Properties of Plasma Nitrided Oxides
Bienacel, J. ; Barge, D. ; Garnier, P. ; Bidaud, M. ; Vishnubhotla, L. ; Pouilloux, I. ; Barla, K.
出版情報: Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging dieletrics VIII : proceedings of the international symposium.  pp.223-231,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-01
5.

国際会議録
国際会議録
5. Tensile Contact Etch Stop Silicon Nitride for NMOS Performance Enhancement: Influence of the Film Morphology
Morin, P. ; Chaton, C. ; Reddy, C. ; Ortolland, C. ; Basso, M.T. ; Arnaud, F. ; Barla, K.
出版情報: Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging dieletrics VIII : proceedings of the international symposium.  pp.253-266,  2005.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2005-01
6.

国際会議録
国際会議録
6. SPECTROSCOPIC AND ELECTROCHEMICAL STUDIES OF THE GROWTH OF CHEMICAL OXIDE IN SC1 AND SC2
Petitdidier, S. ; Guyader, F. ; Barla, K. ; Rouchon, D. ; Rochat, N. ; Erre, R. ; Bertagna, V.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.205-210,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
7.

国際会議録
国際会議録
7. Silicon Surface Chemical Treatments In Oxide/ Nitride Dielectric Stack Properties
Jacques, D. ; Petitdidier, S. ; Regolini, J.L. ; Barla, K.
出版情報: Silicon materials - processing characterization and reliability : symposium held April 1-5, 2002, San Francisco, California, U.S.A..  pp.311-316,  2002.  Warrendale.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 716
8.

国際会議録
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8. Atomic Layer Deposition of Dielectrics and Electrodes for Embedded-DRAM Capacitor Cells in 90nm Technology and Beyond
Gerritsen, E. ; Jourdan, N. ; Piazza, M. ; Fraboulet, D. ; Monsieur, F. ; Damlencourt, J.F. ; Martin, F. ; Mazaleyrat, E. ; Barla, K. ; Bartlett, G.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.328-340,  2004.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-01
9.

国際会議録
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9. OPTIMIZATION OF HF AND OXIDANT WET CLEANINGS BEFORE 7nm GATE OXIDE
Tardif, F. ; Lardin, T. ; Paillet, C. ; Joly, J.P. ; Fleury, A. ; Patruno, P. ; Levy, D. ; Barla, K.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.49-59,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
10.

国際会議録
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10. PARTICLE IMPACT ON 7 nm GATE OXIDES
Paillet, C. ; Papon, A.M. ; Joly, J.P. ; Tardif, F. ; Levy, D. ; Barla, K. ; Patruno, P.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.575-580,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20