1.

国際会議録
国際会議録
1. Extending scatterometry to the measurements of sub 40 nm features, double patterning structures, and 3D OPC patterns
O. Kritsun ; B. La Fontaine ; Y. Liu ; C. S. Saravanan
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.69241M-1-69241M-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
2.

国際会議録
国際会議録
2. Proposal for determining exposure latitude requirements
H. J. Levinson ; Y. Ma ; M. Koenig ; B. La Fontaine ; R. Seltmann
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.69241J-1-69241J-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924