Development of Simple Fabrication Method of SiO2 Diaphragm Using Inward Plasma Etching — 吸引プラズマエッチング法を用いたSiO2ダイアフラム構造作製技術の開発 | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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吸引プラズマエッチング法を用いたSiO₂ダイアフラム構造作製技術の開発
Development of Simple Fabrication Method of SiO₂ Diaphragm Using Inward Plasma Etching

著者名:

Shun'ichiro SHIMBORI

新堀俊一郎

Satoshi TAKAHASHI

さらに 11 件

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2017

巻:

60

号:

4

開始ページ:

148

終了ページ:

152

総ページ数:

5

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	小特集:第57回真空に関する連合講演会論文集. 速報

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