Ellipsometric Monitoring of First Stages of Graphene Growth in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition — プラズマ化学気相堆積におけるグラフェン成長過程の偏光解析モニタリング | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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プラズマ化学気相堆積におけるグラフェン成長過程の偏光解析モニタリング
Ellipsometric Monitoring of First Stages of Graphene Growth in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition

著者名:

Yasuaki HAYASHI

Satoshi ISHIDOSHIRO

さらに 3 件

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2017

巻:

60

号:

4

開始ページ:

135

終了ページ:

138

総ページ数:

4

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	小特集:第57回真空に関する連合講演会論文集. 速報

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