Effect of Ion Irradiation for Ni Films prepared on a Flexible Substrate Material Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement Assisted by Inductively Coupled Plasma — 誘導結合プラズマ支援型多重磁極型マグネトロンスパッタ法により柔軟性素材上に作製した Ni 薄膜に及ぼすイオン照射の効果 | 東京工業大学附属図書館文献データベース

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誘導結合プラズマ支援型多重磁極型マグネトロンスパッタ法により柔軟性素材上に作製した Ni 薄膜に及ぼすイオン照射の効果
Effect of Ion Irradiation for Ni Films prepared on a Flexible Substrate Material Using Magnetron Sputtering with Multipolar Magnetic Plasma Confinement Assisted by Inductively Coupled Plasma

著者名:

掲載資料名:

真空 : journal of the Vacuum Society of Japan

発行年:

2015

巻:

58

号:

8

開始ページ:

319

終了ページ:

323

総ページ数:

5

出版情報:

東京: 真空協会

ISSN:

18822398

言語:

日本語

資料種別:

学術雑誌

詳細

TDL書誌ID:	ZA00066506
論文注記:	速報

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