A new technique for studying photo-acid generator chemistry and physics in polymer films using on-wafer ellipsometry and acid-sensitive dyes

著者名:

• C.-T. Lee ( Georgia Institute of Technology, USA )
• W. Yueh ( Intel Corporation, USA )
• J. M. Roberts ( Intel Corporation, USA )
• T. R. Younkin ( Intel Corporation, USA )
• C. L. Henderson ( Georgia Institute of Technology, USA )

掲載資料名:

Advances in resist materials and processing technology XXV

シリーズ名:

Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering

シリーズ巻号:

6923

発行年:

2008

巻:

1

開始ページ:

692316-1

終了ページ:

692316-8

総ページ数:

8

出版情報:

Bellingham, Wash.: Society of Photo-optical Instrumentation Engineers

ISSN:

0277786X

ISBN:

9780819471086 [0819471089]

言語:

英語

請求記号:

P63600/6923

資料種別:

国際会議録