High Mobility Channels for Ultimate CMOS
- 著者名:
D. Sadana S. Koester Y. Sun E. W. Kiewra S. W. Bedell A. Reznicek J. Ott K. Fogel D. J. Webb J. Fompeyrine J. Locquet M. Sousa R. Germann - 掲載資料名:
- Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS 2: new materials, processes, and equipment
- シリーズ名:
- ECS transactions
- シリーズ巻号:
- 3(2)
- 発行年:
- 2006
- 開始ページ:
- 343
- 終了ページ:
- 354
- 総ページ数:
- 12
- 出版情報:
- Pennington, NJ: Electrochemical Society
- ISSN:
- 19385862
- ISBN:
- 9781566775021 [1566775027]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- E23400/3-2
- 資料種別:
- 国際会議録
類似資料:
Materials Research Society | |
Electrochemical Society |
Materials Research Society |
Electrochemical Society |
Materials Research Society |
Electrochemical Society | |
5
国際会議録
Advanced Applications of Semiconductor Epitaxy for Cutting Edge Integrated Circuit Technolgy
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |