Effective Workfunction Modulation by As Implantation in Metal Gate Stacks
- 著者名:
R. Singanamalla H. Yu T. Janssens T. Witters T. Schram S. Kubicek S. DeGendt M. Jurczak K. De Meyer - 掲載資料名:
- Dielectrics for nanosystems II: materials science, processing, reliability, and manufacturing
- シリーズ名:
- ECS transactions
- シリーズ巻号:
- 2(1)
- 発行年:
- 2006
- 開始ページ:
- 49
- 終了ページ:
- 62
- 総ページ数:
- 14
- 出版情報:
- Pennington, N.J.: Electrochemical Society
- ISSN:
- 19385862
- ISBN:
- 9781566774383 [1566774381]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- E23400/2-1
- 資料種別:
- 国際会議録
類似資料:
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
2
国際会議録
13 High-k Gate Stack Engineering - towards Meeting Low Standby Power and High Performance Targets
Electrochemical Society | |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society | |
Electrochemical Society |
Electrochemical Society |