Mask quality assurance in cleaning for haze elimination using flexible mask specifications

著者名:

K. Otsubo ( Toshiba Corp. (Japan) )

S. Yamaguchi ( Toshiba Corp. (Japan) )

Y. Arisawa ( Toshiba Corp. (Japan) )

H. Mukai ( Toshiba Corp. (Japan) )

T. Kotani ( Toshiba Corp. (Japan) )

H. Mashita ( Toshiba Corp. (Japan) )

H. Hashimoto ( Toshiba Corp. (Japan) )

T. Kamo ( Toshiba Corp. (Japan) )

T. Tsutsui ( Toshiba Corp. (Japan) )

O. Ikenaga ( Toshiba Corp. (Japan) )

さらに 5 件

掲載資料名:

Photomask and next-generation lithography mask technology XIV

シリーズ名:

Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering

シリーズ巻号:

6607

発行年:

2007

出版情報:

Bellingham, Wash.: SPIE - The International Society of Optical Engineering

ISSN:

0277786X

ISBN:

9780819467454 [0819467456]

言語:

英語

請求記号:

P63600/6607

資料種別:

国際会議録