THE INFLUENCE OF THE VOID STRUCTURE ON DEUTERIUM DIFFUSION IN a-Si:H
- 著者名:
van den Boogaard, M.J. Jones, S.J. Chen, Y. Williamson, D.L. Hakvoort, R.A. van Veen, A. van der Steege, A.C. Bik, W.M.A. van Sark, W.G.J.H.M. van der Weg, W.F. - 掲載資料名:
- Amorphous silicon technology, 1992
- シリーズ名:
- Materials Research Society symposium proceedings
- シリーズ巻号:
- 258
- 発行年:
- 1992
- 開始ページ:
- 407
- 終了ページ:
- 412
- 総ページ数:
- 6
- 出版情報:
- Pittsburgh, Pa.: Materials Research Society
- ISSN:
- 02729172
- ISBN:
- 9781558991538 [1558991530]
- 言語:
- 英語
- 請求記号:
- M23500/258
- 資料種別:
- 国際会議録
類似資料:
Materials Research Society |
Materials Research Society |
Electrochemical Society |
MRS - Materials Research Society |
MRS - Materials Research Society |
Materials Research Society |
MRS - Materials Research Society |
Electrochemical Society |
MRS - Materials Research Society |
Materials Research Society |
Materials Research Society |
12
国際会議録
SEPARATING THE CONTRIBUTIONS OF HYDROGEN AND STRUCTURAL RELAXATION TO DAMAGE ANNEALING IN a-Si:H
Materials Research Society |