High-speed and efficient control of refractive index change of fused silica by multiwavelength excitation process using F2 and KrF excimer lasers

著者名:

Obata, K. ( Tokyo Univ. of Science (Japan) )

Sugioka, K. ( The Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN) (Japan) )

Kono, T. ( Tokyo Denki Univ. (Japan) )

Takai, H.

Toyoda, K. ( Tokyo Univ. of Science (Japan) )

Midorikawa, K. ( The Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN) (Japan) )

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掲載資料名:

Third International Symposium on Laser Precision Microfabrication : proceedings : 27-31 May, 2002, Osaka, Japan

シリーズ名:

Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering

シリーズ巻号:

4830

発行年:

2003

開始ページ:

373

終了ページ:

378

総ページ数:

6

出版情報:

Bellingham, Wash., USA: SPIE-The International Society for Optical Engineering

ISSN:

0277786X

ISBN:

9780819446015 [0819446017]

言語:

英語

請求記号:

P63600/4830

資料種別:

国際会議録