Outlook for 157-nm resist design

Author(s):

Kunz, R. R. ( MIT Lincoln Lab. )

Bloomstein, T. M. ( MIT Lincoln Lab. )

Hardy, D. E. ( MIT Lincoln Lab. )

Goodman, R. B. ( MIT Lincoln Lab. )

Downs, D. K. ( MIT Lincoln Lab. )

Curtin, J. E. ( MIT Lincoln Lab. )

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Publication title:

Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California

Title of ser.:

Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering

Ser. no.:

3678

Pub. Year:

1999

Page(from):

13

Page(to):

25

Pages:

13

Pub. info.:

Bellingham, Wash., USA: SPIE - The International Society of Optical Engineering

ISSN:

0277786X

ISBN:

9780819431523 [0819431524]

Language:

English

Call no.:

P63600/3678-1

Type:

Conference Proceedings